始建于1959年
主要技術指標:
◆ 內(nèi)腔直徑(mm):2800、3000、3600等;
◆ 使用整體平面工件盤時:工件直徑不超過φ2400mm,邊緣厚度不超過400mm,工件及夾具總重量不超過10噸,工件轉(zhuǎn)速3-10rpm/min;
◆ 使用三行星平面工件盤時:工件直徑不超過φ1100mm,邊緣厚度不超過250mm,工件及夾具總重量不超過1噸,工件轉(zhuǎn)速3-30rpm/min;
◆ 極限真空:≤8×10-5 Pa(24 小時內(nèi));
◆ 常溫狀態(tài)下,真空室排氣由大氣至壓強2×10-3Pa,排氣時間≤25min;
◆ 250℃烘烤狀態(tài)下,真空室排氣由大氣至壓強2×10-3Pa,排氣時間≤45min;
◆ 下烘烤,最高溫度300℃,控溫精度≤±1℃;
◆ 烘烤至200℃時,溫度不均勻性≤±5℃(徑向5點測試)
◆ 漏氣率:≤1.0×10-4Pa?m3/s;
◆ 膜厚片內(nèi)均勻性:≤±2%(電子束蒸發(fā)源制備Al2O3、SiO2兩種單層薄膜,延半徑方向均分十點測試);
◆ 膜厚片間均勻性: ≤±2%(批次內(nèi)5片,每片取平均值)
◆ 膜厚批間重復性:≤±2% (連續(xù)3批,每批次取平均值) ;
控制程序:
◆ 19U標準機柜,專用控制臺操作;
◆ 基于微軟WPF開發(fā)的全自動一鍵式操作程序,保證鍍膜重復性;
◆ 采用excel文件編輯工藝參數(shù),軟件直接調(diào)用運行即可完成整個鍍膜工藝流程,無需額外操作;
◆ 軟件自動生成詳細的工藝過程運行記錄和鍍膜信息記錄;
◆ 記錄文件可回溯,歷史數(shù)據(jù)曲線可查看,時間期限為1年內(nèi);
◆ 可將TFC和Macload軟件設計參與導入到工藝流程內(nèi);
◆ 膜層狀態(tài)界面可查看厚度、時間、速率、功率等鍍膜信息;
◆ 關鍵部件根據(jù)實際使用情況,有維護時間顯示,即節(jié)約成本,又便于維護;
◆ 完備的互鎖功能,防止誤操作;
◆ 程序設有三級權限,便于管理及維護。
中國真空領域具有核心競爭力的高技術企業(yè)