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工藝過程裝備

磁控濺射箱式真空鍍膜機(jī)
適用行業(yè):光學(xué)元件、材料、半導(dǎo)體、裝飾、教學(xué)科研等。
◆ 全自動(dòng)一鍵式操作,全無油真空系統(tǒng)。
◆ 既能滿足科研院所多品種、小批量產(chǎn)品研制的需求,又能適用于規(guī)?;a(chǎn)。
◆ 以您的鍍膜工藝出發(fā),理論計(jì)算和設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn)結(jié)合,合理的配置,合理的布局。

性能指標(biāo)

主要技術(shù)指標(biāo):

內(nèi)腔直徑(mm):300、400、450、550、650、750、定制

真空抽率:從大氣狀態(tài)到4×10-3Pa,需要時(shí)間≤15min 

鍍膜室(清潔、空載)極限壓力:≤2×10-4 Pa;

保真空(達(dá)到極限壓力,關(guān)閉高閥,1小時(shí)):≤ 9×10-2 Pa

膜厚均勻性:≤±2%;

鍍膜重復(fù)性:≤±2%;


控制程序:

全自動(dòng)一鍵式操作,保證鍍膜重復(fù)性。

全自動(dòng)程序有可編程模式和固定模式兩種可供您選擇。

程序設(shè)有三級(jí)權(quán)限,便于管理及維護(hù)。

所有數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)記錄,可還原成歷史曲線,便于追溯和排查。

關(guān)鍵部件根據(jù)實(shí)際使用情況,有維護(hù)時(shí)間顯示,即節(jié)約成本,又便于維護(hù)。


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